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 利用可能な設備の詳細
53. 電子ビーム描画装置

【装置名】 電子ビーム描画装置
【概略仕様】
機能・特徴:ZrO/W熱電子電界放出型電子銃、最少ビーム径2nmの極細線ビームによるナノパターン描画 対応基板:φ150mm、φ100mmほか ステージ移動:X150mm/Y150mm 描画方式:ベクター、ラスター 重ね合わせ精度:40nm フィールド継ぎ精度:40nm 等

 
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