MNOIC設備の概要

MNOIC研究支援可能な設備の概要

最先端8/12インチMEMS製造装置が主力設備

　MNOICでは、産総研デバイス技術研究部門が保有する様々なMEMS研究設備を利用した研究支援を行います。特に、最先端の8/12インチMEMS研究設備は高価なものも多く、企業にとって利用価値が高いとされています。また、新規導入した最先端の研究装置を用いた研究支援も順次増強していきます。　　　　　　

前工程MEMSライン（TKB８１２F）

　MEMS前工程に必要な最先端装置を完備しています。クリーンルームは約350㎡、クラス1000。　→ 設備配置図（PDF）
　これらの設備装置の多くは、Gデバイス@BEANSの成果を継承しています。

後工程MEMSライン（TKB８１２B）

　MEMS後工程、評価に必要な最先端装置を完備しています。クリーンルームは約150㎡、クラス1000。　→ 設備配置図（PDF）
　これらの設備装置の多くは、Gデバイス@BEANSの成果を継承しています。　

MEMS製造8-12ライン紹介ビデオ

本ビデオは総合イベント「マイクロナノ2011」用に作成したMNOIC@TIAにおけるMEMSライン紹介ビデオをYou Tube にアップしたものです。