MMC
>
MNOICメイン
>
ご利用案内
>
利用可能な設備の詳細
>
ご利用案内
利用可能な設備の詳細
39. 電子ビーム/抵抗蒸着装置
【装置名】 電子ビーム/抵抗蒸着装置
【概略仕様】
ウェハ寸法：8、12インチウェハ、機能：電子ビーム及び抵抗加熱方式真空蒸着、8インチ3枚バッチ、12インチ枚葉処理、成膜速度例：30－60nm/分
MNOICメイン
ご利用案内
提供サービス
設備概要
お問合せ・アクセス
一般財団法人マイクロマシンセンター
サイトマップ
センターアクセス
お 問 合 せ
Copyright c Micromachine Center. All rights reserved.
