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38. 大面積ナノインプリント装置
【装置名】 大面積ナノインプリント装置
【概略仕様】
基板寸法：最大200mm角、機能：熱および光ナノインプリントによる微細パターン形成、加熱温度：200℃、最大加圧力：5MPa
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