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18. Si窒化膜減圧CVD装置
【装置名】 Si窒化膜減圧CVD装置
【概略仕様】
ウェハ寸法：8インチウェハ、機能：減圧CVDによるSiウェハへの窒化膜形成、25枚バッチのカセット･ツー･カセットウェハ搬送処理、縦型チューブ仕様、内部応力制御成膜可能
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