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 利用可能な設備の詳細
18. Si酸化膜ドライエッチング装置

【装置名】 Si酸化膜ドライエッチング装置
【概略仕様】
ウェハ寸法:8インチウェハ、機能:フッ素系ガスによるICPドライエッチング、Si酸化膜・Si窒化膜の非ボッシュプロセスによるエッチング加工、カセット・ツー・カセット搬送処理、エッチング終点判定機能

 
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