MMC > MNOICメイン > ご利用案内 > 利用可能な設備の詳細 >

ご利用案内

 利用可能な設備の詳細
15. Si窒化膜減圧CVD装置

【装置名】 Si窒化膜減圧CVD装置
【概略仕様】
ウェハ寸法:8インチウェハ、機能:減圧CVDによるSiウェハへの窒化膜形成、25枚バッチのカセット・ツー・カセットウェハ搬送処理、縦型チューブ仕様、内部応力制御成膜可能

 
MNOICメイン  ご利用案内  提供サービス  設備概要  お問合せ・アクセス

一般財団法人マイクロマシンセンター サイトマップ センターアクセス お 問 合 せ
Copyright c Micromachine Center. All rights reserved.