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 利用可能な設備の詳細
9. マスクレス露光装置

【装置名】 マスクレス露光装置
【概略仕様】
ウェハ寸法:最大12インチウェハ、機能:DMD光源によるパターン直描露光、描画エリア:最大500mm角、最小線幅:1μm

 
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